![Lotion Złuszczający z...](https://skinwisdom.pl/1498-home_default/lotion-złuszczający-z-kompleksem-kwasów-bha-2-poprawiający-wygląd-skóry-kin-perfector-2-bha-woods_copenhagen.webp)
- -86,00 zł
Złuszczający peeling kwasowy do twarzy z 8% kwasem mlekowym, 6% kwasem laktobionowym, 3% glukonolaktonem oraz dwoma silnymi antyoksydantami, glutationem i resweratrolem przyczynia się do kompleksowego działania pobudzającego skórę do odnowy i regeneracji, poprawy nawilżenia i wyrównania kolorytu. Skóra staje się wygładzona, rozświetlona i bardziej podatna na działanie składników aktywnych.
- Kwas mlekowy łagodnie złuszcza naskórek i podnosi poziom nawilżenia skóry, przyczyniając się do redukcji przebarwień. Działa przeciwstarzeniowo, wygładzając drobne linie i zmarszczki. Wpływa także na produkcję kolagenu, wspomagając tym samym poprawę elastyczności skóry.
- Kwas laktobionowy wraz z glukonolaktonem, należące do grupy łagodnych kwasów polihydroksylowych, skutecznie łagodzą podrażnienia i zmniejszają zaczerwienienie skóry, przyspieszają jej regenerację i odnowę oraz silnie zwiększają nawilżenie. Z tego względu polecane są szczególnie w pielęgnacji cer wrażliwych czy naczyniowych.
- Połączenie kwasów z argininą zapewnia ich skuteczniejsze, ale mniej agresywne działanie.
- Duet silnych antyoksydantów (glutationu i resweratrolu) skutecznie neutralizuje działanie wolnych rodników i odgrywa istotną rolę w likwidacji przebarwień, np. pozapalnych.
Peeling stosować wyłącznie wieczorem, 1-2 razy w tygodniu na czystą i suchą skórę. Aplikować równomiernie na twarzy i szyi, omijając okolice oczu, ust i skrzydełek nosa oraz błon śluzowych. Pozostawić na 10 minut, a następnie dokładnie spłukać peeling letnią wodą w celu neutralizacji kwasu. Lekkie pieczenie skóry podczas pierwszych aplikacji jest objawem normalnym i wynika z niskiego pH peelingu (poniżej 3).
Ponieważ peeling kwasowy jest całoroczny, wysoka ochrona przeciwsłoneczna SPF50+ na dzień jest niezbędna. Przed zastosowaniem peelingu warto zrobić próbę uczuleniową na zgięciu łokciowym - nałożyć odrobinę produktu na czystą i suchą skórę w zgięciu łokcia, zmyć po 10 minutach i przez następne 24 godziny poddać obserwacji. W przypadku wystąpienia niepożądanej reakcji skóry zrezygnować z dalszego stosowania produktu. Nie należy stosować produktu na uszkodzoną czy podrażnioną skórę. W przypadku mocnego podrażnienia zaprzestać aplikacji.
Kobiety w okresie ciąży bądź karmienia piersią przed użyciem produktu powinny skonsultować się z lekarzem.
Nie wiesz, czy ten produkt będzie dla Ciebie odpowiedni? Potrzebujesz pomocy w doborze kosmetyków?
Skorzystaj z pakietu Prosty Start.
Prosty start pozwoli Ci w 10 minut uzyskać ocenę stanu Twojej skóry. Otrzymasz kompleksowy plan pielęgnacji i listę profesjonalnie dobranych kosmetyków. Jak u kosmetologa - a nawet lepiej, bo dostajesz to wszystko od ręki! Bez czekania i bez stania w kolejkach. Planowanie bierzemy na siebie, a Ty możesz oddać się przyjemności, którą daje dobrze ułożona pielęgnacja.
Marka BasicLab Dermocosmetics powstała z myślą o dermokosmetykach, które łączą naturę z wysoko zaawansowaną technologią. Składniki aktywne to jądro BasicLab, dlatego marka jasno komunikuje ich stężenia.
Produkty dedykowane są skórze wrażliwej i wymagającej.
Formuły marki zostały stworzone, aby zminimalizować ryzyko wystąpienia reakcji alergicznych. Kosmetyki do twarzy BasicLab nie zawierają dodatków zapachowych, a w produktach do ciała użyte zostały zapachy z grupy hipoalergicznych.
Marka BasicLab powstała w Polsce i jej produkty również są produkowane w Polsce.
SKŁAD: Aqua, Propanediol, Lactic Acid, Lactobionic Acid, Gluconolactone, Glutathione, Resveratrol, Xanthan Gum, Arginine.
Złuszczający peeling kwasowy do twarzy z 8% kwasem mlekowym, 6% kwasem laktobionowym, 3% glukonolaktonem oraz dwoma silnymi antyoksydantami, glutationem i resweratrolem przyczynia się do kompleksowego działania pobudzającego skórę do odnowy i regeneracji, poprawy nawilżenia i wyrównania kolorytu. Skóra staje się wygładzona, rozświetlona i bardziej podatna na działanie składników aktywnych.